Eintrag weiter verarbeiten
Three-dimensional distribution of Al in high-k metal gate: Impact on transistor voltage threshold
Uloženo v:
Název časopisu: | Applied Physics Letters |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , , |
In: | Applied Physics Letters, 100, 2012, 20 |
Formát: | Článek |
Jazyk: | angličtina |
vydáno v: |
AIP Publishing
|
Předměty: |