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Three-dimensional distribution of Al in high-k metal gate: Impact on transistor voltage threshold
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Applied Physics Letters |
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Personen und Körperschaften: | , , , , , |
In: | Applied Physics Letters, 100, 2012, 20 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |