Eintrag weiter verarbeiten
Measurement of the redistribution of arsenic at nickel silicide/silicon interface by secondary ion mass spectrometry: artifact and optimized analysis conditions
Uloženo v:
Název časopisu: | Journal of Applied Physics |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , |
In: | Journal of Applied Physics, 104, 2008, 2 |
Formát: | Článek |
Jazyk: | angličtina |
vydáno v: |
AIP Publishing
|
Předměty: |