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Measurement of the redistribution of arsenic at nickel silicide/silicon interface by secondary ion mass spectrometry: artifact and optimized analysis conditions
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | , , , , |
In: | Journal of Applied Physics, 104, 2008, 2 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |