Eintrag weiter verarbeiten
Dark-field electron holography as a recording of crystal diffraction in real space: a comparative study with high-resolution X-ray diffraction for strain analysis of MOSFETs
Uloženo v:
Název časopisu: | Journal of Applied Crystallography |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , , , , , |
In: | Journal of Applied Crystallography, 53, 2020, 4, s. 885-895 |
Formát: | Článek |
Jazyk: | Neurčité |
vydáno v: |
International Union of Crystallography (IUCr)
|
Předměty: |