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In-situ IR and spectroscopic ellipsometric analysis of growth process and structural properties of Ti1−xNbxO2 thin films by metal-organic chemical vapor deposition
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Thin Solid Films |
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Personen und Körperschaften: | |
In: | Thin Solid Films, 346, 1999, 1-2, S. 73-81 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
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Schlagwörter: |