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Mikroskop‐photometrische Untersuchungen des Wachstums von Silbersulfidschichten
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Materialwissenschaft und Werkstofftechnik |
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In: | Materialwissenschaft und Werkstofftechnik, 3, 1972, 1, S. 26-32 |
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Lang, Helmut Leinweber, Susanne 0933-5137 1521-4052 Wiley Mechanical Engineering Mechanics of Materials Condensed Matter Physics General Materials Science http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19720030106 <jats:title>Abstract</jats:title><jats:p>Bei Korrosionserscheinungen findet man häufig dünne Oberflächenfilme, deren Dickenbestimmung sehr wichtig sein kann, entweder um über das Verhalten des Grundmaterials oder über das der Korrosionsschicht Aussagen machen zu können. In der vorliegenden Arbeit wird eine optische Methode zur Untersuchung der Schichtdicke und des Wachstums absorbierender Oberflächenschichten beschrieben. Mit Hilfe der Mikroskop‐Photometrie wird das spektrale Reflexionsvermögen dünner Schichten bei senkrechtem Lichteinfall bestimmt und mit theoretisch berechneten Kurven verglichen, wenn die optischen Konstanten des Grund‐ und Schichtwerkstoffs bekannt sind. Diese Methode erwies sich als geeignet, das Anlaufverhalten von Silber in schwefelhaltiger Atmosphäre zu untersuchen. Dabei konnten Schichten ab ca. 1 nm nachgewiesen werden. Es werden Wachstumskurven für die Silbersulfidschicht bei verschiedenen Temperaturen angegeben und das Erscheinungsbild des Anlaufverhaltens näher diskutiert.</jats:p> Mikroskop‐photometrische Untersuchungen des Wachstums von Silbersulfidschichten Materialwissenschaft und Werkstofftechnik |
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