Eintrag weiter verarbeiten
Combined experimental and modeling studies of microwave activated CH4/H2/Ar plasmas for microcrystalline, nanocrystalline, and ultrananocrystalline diamond deposition
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , |
In: | Journal of Applied Physics, 109, 2011, 6 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
|
Schlagwörter: |