Eintrag weiter verarbeiten
Thermal stability of NiSi2 on high-dose ion-implanted (001) Si
Zapisane w:
Tytuł czasopisma: | Journal of Applied Physics |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , |
In: | Journal of Applied Physics, 71, 1992, 2, S. 653-658 |
Format: | E-Article |
Język: | Englisch |
Wydane: |
AIP Publishing
|
Hasła przedmiotowe: |