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Thermal stability of NiSi2 on high-dose ion-implanted (001) Si
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Journal of Applied Physics, 71, 1992, 2, S. 653-658 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |