Eintrag weiter verarbeiten
Diffusion, activation, and regrowth behavior of high dose P implants in Ge
Zapisane w:
Tytuł czasopisma: | Applied Physics Letters |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , , , , |
In: | Applied Physics Letters, 88, 2006, 16 |
Format: | E-Article |
Język: | Englisch |
Wydane: |
AIP Publishing
|
Hasła przedmiotowe: |