Eintrag weiter verarbeiten
Diffusion, activation, and regrowth behavior of high dose P implants in Ge
Uloženo v:
Název časopisu: | Applied Physics Letters |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , , , , |
In: | Applied Physics Letters, 88, 2006, 16 |
Formát: | Článek |
Jazyk: | angličtina |
vydáno v: |
AIP Publishing
|
Předměty: |