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Modification of oxidation resistance of copper films by shallow implantation
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | , , |
In: | Journal of Applied Physics, 90, 2001, 3, S. 1638-1641 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |