Eintrag weiter verarbeiten
Stability of zirconium silicate films on Si under vacuum and O2 annealing
Uloženo v:
Název časopisu: | Applied Physics Letters |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , , , , |
In: | Applied Physics Letters, 78, 2001, 17, s. 2446-2448 |
Formát: | Článek |
Jazyk: | angličtina |
vydáno v: |
AIP Publishing
|
Předměty: |