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Investigation of Ultra Thin Thermal Nitrided Gate Dielectrics in Comparison to Plasma Nitrided Gate Dielectrics for High-Performance Logic Application for 65nm
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Materials Science Forum |
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Personen und Körperschaften: | , , , , , , , , , , , , , |
In: | Materials Science Forum, 573-574, 2008, S. 153-163 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Unbestimmt |
veröffentlicht: |
Trans Tech Publications, Ltd.
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Schlagwörter: |