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Tailoring dopant diffusion for advanced SiGe:C heterojunction bipolar transistors
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Solid-State Electronics |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Solid-State Electronics, 44, 2000, 5, S. 783-789 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
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Schlagwörter: |