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Formation of shallow p+n junctions by implanting BF2− ions into thin cobalt films on silicon substrates
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Solid-State Electronics |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Solid-State Electronics, 35, 1992, 4, S. 453-457 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
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Schlagwörter: |