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Optical, structural and electrical properties of devicequality hydrogenated amorphous silicon-nitrogen films deposited by plasma-enhanced chemical vapour deposition
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Philosophical Magazine B |
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Personen und Körperschaften: | |
In: | Philosophical Magazine B, 77, 1998, 4, S. 925-944 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Unbestimmt |
veröffentlicht: |
Informa UK Limited
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Schlagwörter: |