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Effects of rapid thermal annealing on the formation of shallow p+n junction by implanting BF2+ ions into thin metal films on Si substrate. II. Thin cobalt films
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Journal of Applied Physics, 71, 1992, 3, S. 1271-1276 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |