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Radiation damage and implanted He atom interaction during void formation in silicon
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Applied Physics Letters |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Applied Physics Letters, 71, 1997, 12, S. 1673-1675 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |