Eintrag weiter verarbeiten
Dopant interactions during the diffusion of arsenic and boron in opposite directions in polycrystalline/monocrystalline silicon structures
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Applied Physics Letters |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , |
In: | Applied Physics Letters, 67, 1995, 21, S. 3156-3158 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
|
Schlagwörter: |