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Reply to ``Comments on `Diffusion in Silicon I-III and Generation of Excess Vacancies by Motions of Diffusion-Induced Dislocations' ''
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | |
In: | Journal of Applied Physics, 41, 1970, 1, S. 424-424 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |